上海微电子出产的首台2.5D/3D先进封装光刻机顺畅交给并正式投入使用。

　　上海微电子以每台1800万元的价格，卖了2台给昆山同兴达，一家专心芯片封测技能的公司 。有一说一，我国人不骗我国人，这个价格真不贵。

　　按光刻机的用处来区分的话，光刻机分为前道光刻机和后道光刻机。望文生义，前道光刻机用于前端环节——制作，后道光刻机光刻机用于后端环节——封测。

　　后道封测光刻机，作用是在芯片别离封装过程中，测验流程，提高芯片后道制作良率。所以，比较前道制作光刻机，后道封测光刻机，所需的技能含量并不太高。

　　可是，这并不意味着上海微电子出产的首台2.5D/3D先进封装光刻机十分鸡肋。

　　首要，当“国产”和“光刻机”这个词组合在一起时，就现已满意我们振奋一阵了。尽管技能含量不高，那也是在相对的语境下，究竟技能是用来晋级打破的。

　　更何况，在封测光刻机范畴中，这台2.5D/3D先进封装光刻机，已然是一切竞品中的“佼佼者”。上海微电子更是称其——“代表了职业同类产品的最高水平”。

　　据悉，它能够用于2.5D/3D等超大芯片的先进封装方式，也可满意Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。而且还具有高精度、高良率的特色。

　　所以，这台国产封装光刻机，是上海微电子的一大步，也是自研光刻机范畴的一大步。

　　当然，国产后道封测光刻机的打破当然令人心潮澎湃，可是我们也需求正视：我国与世界先进水平之间，前道制作光刻机的距离。

　　按光源先进程度区分，前道制作光刻机又能够分为EUV光刻机、DUV光刻机、UV光刻机、ArF、KrF……（排名顺次由高到低）。

　　我们耳熟能详的光刻机，美国要点冲击的光刻机，首要正是EUV光刻机、DUV光刻机。

　　EUV光刻机、DUV光刻机，又首要被荷兰ASML、日本佳能、日本尼康独占。对了，这三家都活在“美国技能暗影”中。

　　我国现在最为紧缺的便是EUV光刻机，而这些设备基本上100%都在荷兰ASML手上。

　　只不过……emmm……现在展示出的最先进的一款，分辨率也仅停留在90nm。

　　90nm和7nm之间的不同，不只在于两位数和个位数，更是中美光刻机研制出产技能的10年距离。

　　所以，我们现在的燃眉之急，便是将90nm后边坠着的零去掉，自研出国产高端前道制作光刻机。

　　而最有期望给我们带来好音讯的正是这家上海微电子。究竟，在2年前就曾有音讯指向，其在短期内落地国产自研28nmDUV光刻机十分有戏。

　　现在看来，上海微电子也确真实半导体内脚踏实地，勤劳深耕。我国的光刻机短板能不能由上海微电子补齐？这，是我们一起的期盼的愿景。

　　镇压、封闭、制裁，美国联合荷兰、日本，对我国高端芯片的研制出产布下天罗地网。因而，芯片问题一直是一块压在国人心头的巨石。这扼住命运后脖颈的味道，真不舒适。

　　而想要化解我国当前所面对的芯片缺口之难，最要害的一步是？——国产自研光刻机。

　　没有光刻机，连中芯世界最新芯片技能——14nm芯片量产工艺制程，也会颇受影响。究竟中芯世界要想完成14nm芯片量产，靠的仍是ASML的DUV光刻机。

　　所以，国产自研光刻机的研制量产十分急迫，那是箭在弦上，不得不发。芯片去美化，必须得从源头抓起，也便是从光刻机上完成跨越性打破，追平美国科技。

　　总而言之，国产封测光刻机再上一层楼，这个振奋人心的音讯不只在于其自身传达的字面信息，更在于其证明了：只需下功夫，我国自研光刻机仍是能有未来。

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