IT之家 9月19日音讯 据上海微电子配备集团官方大众号，昨日，上海微电子举办新产品发布会，宣告推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。
据介绍，上海微电子此次推出的新品光刻机首要使用于高密度异构集成范畴，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特色。
上海微电子称，该封装光刻机可协助晶圆级先进封装企业完成多芯片高密度互连封装技能的使用，满意异构集成超大芯片封装尺度的使用需求，一起将助力封装测验厂商提高工艺水平、开辟新的工艺，在封装测验范畴共同为我国集成电路工业的开展做出更多的奉献。
IT之家了解，据报道，现在，上海微电子已与多家客户达到新一代先进封装光刻机出售协议，首台封装光刻机将于年内交给。
